CVD涂層設(shè)備
產(chǎn)品編號(hào)：
分類：
關(guān)鍵詞：
cvd
10-100l
氮?dú)?/span>
CVD涂層設(shè)備
詳情介紹
設(shè)備用途
提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，應(yīng)用在半導(dǎo)體，納米技術(shù)，碳纖維等新材料工藝領(lǐng)域。
主要技術(shù)參數(shù)
1、額定功率：30KW
2、最高溫度：500℃
3、有效工作區(qū)尺寸：Φ400×800mm
4、空爐冷態(tài)極限真空度：≤20Pa（15min內(nèi)能抽到20Pa以下）
5、冷態(tài)壓升率：≤2Pa∕h
6、充氣壓力（微正壓）：≤0.01Mpa
7、工作氣氛：空氣和氮?dú)?nbsp;
8、兩個(gè)空氣浮子流量計(jì)：1-10L/min，10-100L/min
9、兩個(gè)氮?dú)飧∽恿髁坑?jì)：1-10L/min，10-100L/min
10、樣品轉(zhuǎn)速：1-10r/min
11、發(fā)熱元件：Cr20Ni80
12、測(cè)溫方式：K型熱電偶
13、控溫精度：±1℃
14. 溫度均勻性：±5℃
15、樣品尺寸：Φ300×300mm；數(shù)量：2
16、爐型：臥式
注：可根據(jù)用戶要求定制各種型號(hào)非標(biāo)產(chǎn)品。
產(chǎn)品詢價(jià)
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